Ústav molekulární genetiky AV ČR, v. v. i.
Vznik rezistence na léčiva namířená proti bakteriím, virům a nádorovým buňkám je jednou z největších hrozeb pro současné lidstvo a tedy zásadní otevřenou vědeckou otázkou.
Vznik rezistence na léčiva namířená proti bakteriím, virům a nádorovým buňkám je jednou z největších hrozeb pro současné lidstvo a tedy zásadní otevřenou vědeckou otázkou. Mechanismy vzniku rezistence jsou různé a zahrnují především nabytí schopnosti vypumpovat léčivo ven z buňky nebo ho účinně metabolizovat. Poznání mechanismů vzniku rezistence je nezbytným předpokladem pro vývoj nových účinnějších léčiv a postupů, které by omezovaly její vznik. Vědci z Ústavu molekulární genetiky AV ČR se dlouhodobě věnují studiu rezistence na fotodynamickou terapii, která je zvažována jako možná alternativní léčba u nádorů rezistentních na klasickou chemoterapii. Jejich výsledky byly publikovány ve významném mezinárodním časopise Scientific Reports.
Hlavním principem fotodynamické terapie je selektivní akumulace látek citlivých na světlo, tzv. fotosensitizérů, v nádorové tkáni. Fotosensitizéry po aktivaci světlem způsobují ve svém okolí vznik kyslíkových radikálů, které zabíjejí nádorové buňky. Badatelé vyvinuli experimentální model vzniku rezistence po vícenásobné léčbě pro několik fotosensitizérů a moderními metodami molekulární biologie zjistili, že v závislosti na jejich chemické struktuře je hlavní příčinou rezistence především zvýšená hladina trasportního proteinu ABCB1 (P-glycoprotein), který účinně odstraňuje fotosensitizéry z buněk. Zablokování ABCB1 transportéru pomocí inhibitorů nebo specifickým umlčením informace pro jeho syntézu došlo k obnově citlivosti na fotodynamickou terapii.
Jiný mechanismus rezistence byl odhalen u klinicky používaného temoporfinu, u něhož byla zjištěna změna nitrobuněčné lokalizace vedoucí k výraznému snížení tvorby kyslíkových radikálů. Důležitým poznatkem je, že rezistenci získanou na terapii určitým fotosensitizérem lze překonat použitím jiného fotosensitizéru, který není cilivý na stejný mechanismus rezistence.
RNDr. Jarmila Králová, CSc.,
tel.: 241 063 392, e-mail: kralova@img.cas.cz,
web: www.openscreen.cz
Původní článek na avcr.cz nebo také v pdf verzi.